离子气相沉积铝

　　离子气相沉积(IVD)和通常的真空镀膜是相同的,其共同点是使金属燕发,让它凝在待镀件的表面，铝离子气相沉积在精致件上镀装饰铝,其镀层较厚,较致密，并有较大的附着力。这种镀是在镀件和蒸发源之间,加以高的负电位而获得的。把情性气体引入真空系统并离子化，带正电荷的离子,被吸引到带负电荷的另件表面上。它们轰击另件表面,使表面清洁,能够得到较好的附着力。

 

　　接着辉光放电静化后,继以铝的蒸发。当它通过辉光放电区时,它一部份就离子化了,使其加速到达另件。离子化提供了较好的分散能力,可使复杂形状的工件得到均匀的镀层。连续把U型铝线馈送到蒸发源处,就可以获得较厚的镀层。

 

　　离子气相沉积能代替电镀镉和真空沉积镉以及镍一镉扩散层。为了节约,可以在低合金钢上镀铝来代替不锈钢。镀层不会产生氢脆,摩擦系数高于镀镉。镀层显示的性能与纯铝相同,它与铝结构有相溶性,并减少了铝与不同金属(如钢)结合时的腐蚀问题。在温度超过800F时也可以用,不会降低基体的机械性能,此外这种镀复方法不会造成环境污染。