eVorizon VL系列 磁控溅射立式连续镀膜设备

面向光伏行业和磁性材料行业的立式磁控溅射镀膜设备。

技术规格如下：

基材种类	金属、玻璃、陶瓷、塑料等
基材宽幅	1000-2200mm
基片走速	30-1000mm/min
薄膜均匀性	±5%
靶材利用率	平面阴极≥30%，移动平面阴极≥60%，旋转阴极≥80%