PVD镀制钛金属涂层的特性
2017-03-24
PVD镀膜的原理说明:真空离子镀膜PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写,中文为「物理气相沉积」。是当前国际上广泛应用且先进的表面处理技术,真正能够获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法。其原理是指在真空状态下,镀膜材料经离子物理方法气化,沉积到被镀产品上的一种製取膜层的方法。
PVD镀膜的膜层特点:
(1)优越的附著力:PVD镀膜持有很高附著力和耐久力,可适用于不同角度折弯而不发生裂化或者剥落,可以使用在内装修或者室外。
(2)抗氧化、抗腐蚀:化学性能稳定,在正常环境下,室内外都能抗氧化、不易褪色、维持金属光泽度。
(3)增加表面硬度:以Micro测定的被膜硬度,可达HV2,250。
镀膜层种类和厚度:
(1)膜层种类:PVD镀膜技术,能够製备氮化物膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。
(2)膜层厚度:膜层的厚度为微米级,装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm~0.5μm
(3)PVD镀膜的颜色种类:1)锆色(-001),2)咖啡色(-002),3)黑色(-003),4)金黄色(-004),5)玫瑰金色(-005),6)青铜色(-006),7)香槟色(-007)
通过控制镀膜过程中的相关参数,可以控制镀出的颜色;镀膜结束后可以用相关的仪器对颜色值进行测量,使颜色得以量化,以确定所镀出的颜色是否满足要求。