丹普4G-CAE电弧技术镀制20微米TiN膜层的测试报告

　　TiN涂层是目前应用于刀具、模具以及关键零部件最为广泛的涂层，它具有硬度高、摩擦系数低等特点，传统TiN涂层的厚度基本都在3-5微米，由于膜层生长结构的原因，很难将膜层沉积到20微米，而北京丹普表面技术有限公司利用GISETCH+4G-CAE电弧技术完美的解决了这一问题。点击这里查看4G-CAE技术介绍

 

　　本试验基于丹普AS500型工具镀硬质涂层设备，使用GISETCH+4G-CAE技术，在高速钢机体表面沉积20微米TiN涂层，其表面形貌、组织结构及性能的测试，达到了非常理想的效果。

 

　　试验条件：
 

　　设备：AS500试验机

　　基片：高速钢试片

　　镀膜温度：420℃

　　镀膜方式：GISETCH+4G-CAE

　　膜层材料：TiN

 

　　测试结果：
 

膜层厚度（球磨法）：21.159微米


硬度值HK/25gf：2980HK


洛氏压痕级别：HF1级


划痕结合力：LC2=100N

折弯测试：不锈钢折弯形貌较好，表层膜层未脱落

 

 

　　结论：

 

　　使用丹普4G-CAE阴极电弧技术处理的涂层可以有效减少镀制过程中的微液滴，极大的提高了电弧涂层的表面光亮度、硬度及耐磨性，膜层更加致密，色泽更加饱满，还可以提高靶材利用率，靶材利用率可达70%，从而大幅提高了TiN涂层的性能。