真空室尺寸 | Ø1250mm * H1000mm |
均匀可镀区 | Ø1000mm * H650mm |
极限真空度 | 3.0*10-4Pa |
压升率 | 0.33Pa/hr(常态) |
冷却水 | 6ton/hr |
占据空间 | 4.5*4.0*3.5m3 |
真空室 | 日韩304不锈钢,单层内衬,五年质保,前开门+左右两侧侧开门,方便维护 |
抽气系统 | KYKY分子泵/Edwards/Leybold磁悬浮分子泵+Leybold粗抽泵+罗茨泵 |
真空检测 | Inficond薄膜规+SKY90复合真空计 |
流量控制 | 七星华创7S-CS200数字流量计/Brooks/MKS/AE |
转架 | 上吊装转架或可移出式下转架任选 |
阴极电弧 | 最多2组(6套)CAE(靶材规格100*40) |
磁控溅射 | 最多3组(6套)柱状或者平面溅射靶 |
气体离子源 | 阳极层流型气体离子源1套 |
偏压电源 | AE Pinnacle Plus 10KW/ Huettinger 18KW |
智能源挡板 | 1套,实现镀膜前的靶材预清洗 |
加热系统 | 最高300度,2根热电偶监测 |
冷却水循环系统 | 配日本SMC水流开关,智能控制 |
电气元件 | 日本欧姆龙PLC、端子、施耐德等空开、接触器 |