真空室尺寸 | Ø760mm * H700mm |
均匀可镀区 | Ø500mm * H300mm |
极限真空度 | 3.0*10-4Pa |
压升率 | 0.33Pa/hr(常态) |
冷却水 | 5ton/hr |
占据空间 | 4.0*3.0*3.5m3 |
真空室 | 日韩304不锈钢,双层内衬,五年质保 |
抽气系统 | Edwards/Leybold磁悬浮分子泵+Leybold粗抽泵 |
真空检测 | Inficond薄膜规+SKY90复合真空计 |
流量控制 | 七星华创7S-CS200数字流量计/Brooks/MKS/AE |
转架 | 可移出式下转架(4轴) |
阴极电弧 | 最多2组(4套)4G-CAE(靶材规格100*20) |
磁控溅射 | 最多2组(4套)柱状或者平面 |
气体离子源 | 阳极层流型气体离子源1套 |
偏压电源 | AE Pinnacle Plus 10KW/ Huettinger 18KW |
智能源挡板 | 1套,实现镀膜前的靶材预清洗 |
加热系统 | 最高500度,3根热电偶监测 |
冷却水循环系统 | 配日本SMC水流开关,智能控制 |
电气元件 | 日本欧姆龙PLC、端子、施耐德等空开、接触器 |