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AS510DMTXB

AS510DMTXB是专为硬质合金刀片设计的一款PVD涂层设备,运用了GAMS多元涂层技术,GAMS运用了包括:GISETCH :气体离子刻蚀及辅助沉积技术、4G-CAE :第四代阴极电弧技术、UBMS非平衡磁控溅射...
  • 详细介绍
AS510DMTXB是专为硬质合金刀片等小尺寸产品设计的一款PVD涂层设备,运用了GAMS多元涂层技术,GAMS运用了包括:GISETCH®:气体离子刻蚀及辅助沉积技术、4G-CAE®:第四代阴极电弧技术、UBMS非平衡磁控溅射技术和Smart Shutter智能源挡板技术,可以镀制SINOX4系列五元合金(Al、Ti、Cr、Me、Si)氮氧化物涂层,技术规格如下:

真空室尺寸 Ø800mm * H700mm
均匀可镀区 Ø500mm * H300mm
极限真空度 3.0*E-4Pa
压升率 0.2Pa/hr
冷却水 6ton/hr
占据空间 4.5*4.0*3.5
抽气系统 磁悬浮涡轮分子泵抽真空系统
真空检测 复合真空计+薄膜真空规
工艺气体MFC 4路
转架 可移出式下转架(4轴、5轴、6轴、8轴任选)
4G-CAE®第四代阴极电弧系统 8套(4列)
UBMS非平衡磁控溅射系统 2套
GISETCH®气体离子刻蚀及辅助沉积系统 1套
偏压电源 1套
Smart智能源挡板 1套
加热系统 550度,3根热电偶监测
冷却水循环系统 配日本SMC水流开关,智能控制
自动控制 IPC+PLC全自动控制
装载量 1800片/炉(以Φ20*6mm规格刀片为例)
生产运行周期 SINX4系列和SINOX4系列涂层(3μm),5.5小时/炉

 
索取离子镀膜机报价及行业解决方案:huzhongjun@naura.com

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