IVD离子辅助蒸发技术 当前位置:主页 > 技术说明 > IVD离子辅助蒸发技术
IVD是离子辅助蒸发镀膜技术（Ion Assisted Vapor Deposion）的简称，是在传统的蒸发镀膜的基础上，利用离子镀的原理，提高蒸发镀膜的离化率，进而提高蒸发镀膜层的性能。
IVD镀铝技术广泛应用于各种军用、民用的防腐功能涂层，用于替代电镀，例如：钕铁硼表面镀铝防腐，航空紧固件镀铝防腐等。
专利技术：一种离子辅助热蒸发复合磁控溅射镀膜装置。
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