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IVD离子辅助蒸发技术 当前位置:主页 > 技术说明 > IVD离子辅助蒸发技术

        IVD是离子辅助蒸发镀膜技术(Ion Assisted Vapor Deposion)的简称,是在传统的蒸发镀膜的基础上,利用离子镀的原理,提高蒸发镀膜的离化率,进而提高蒸发镀膜层的性能。

        IVD镀铝技术广泛应用于各种军用、民用的防腐功能涂层,用于替代电镀,例如:钕铁硼表面镀铝防腐,航空紧固件镀铝防腐等。

        专利技术:一种离子辅助热蒸发复合磁控溅射镀膜装置。
 

 

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