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IVD离子辅助蒸发 当前位置:主页 > 技术说明 > IVD离子辅助蒸发
   蒸发镀(VaporDeposition)技术是先将工件放入真空室,采用一定的方法加热,然后使镀膜材料(如金属铝)蒸发或升华,飞至工件表面凝聚成膜,该技术具有设备简单、工艺易控制的优点。但是一般热蒸发获得的膜层比较粗糙,膜层的附着强度差,并且很容易形成粗大的柱状晶结构,耐腐蚀性能也不理想,一般的蒸发镀技术用于表面防护处理的应用较少,只有国外有少量的关于离子辅助蒸发沉积(IonVaporDeposition,IVD)技术制备铝膜的报道。
 
  IVD技术是指在蒸发源上方的工件上加负偏压,在工件周围产生辉光放电,在蒸发镀膜过程中,被蒸发的金属蒸气原子通过辉光区时,部分金属原子被电离成为金属离子,加速的金属离子或原子运动至工件表面成膜。该技术所制备的金属涂层具有致密性好、与基体的结合程度高、沉积速率快等优点,因此,该技术可应用于腐蚀防护膜层的制备。
 
  北京丹普表面技术有限公司开发了一项带连续送丝装置的离子辅助蒸发系统,通过调整送丝速率来控制蒸发速率,沉积铝膜速率最高可达20微米/小时,在真空室内配置的离子辅助装置作用下,沉积的铝膜在致密性、结合力都达到腐蚀防护膜层的要求,在钕铁硼材料表面制备的铝防腐涂层通过了工业质量认证。
 
连续送丝离子辅助蒸发系统
连续送丝离子辅助蒸发系统

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