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4G阴极电弧 当前位置:主页 > 技术说明 > 4G阴极电弧
  北京丹普表面技术有限公司的4G电弧技术在工具镀领域取得了非常好的效果。做出的膜层质量可以和国外涂层公司的产品直接竞争,也奠定了北京丹普表面技术有限公司涂层设备在国内的领先优势。本技术采用特殊的电磁场设计,驱使电弧弧斑跑动更快,弧斑在同一位置停留的时间更短,弧斑更细碎,单体能量更小,有效地降低微液滴的尺寸和数量;同时放电的弧斑数量更多,产生的等离子体更强,在电磁场的驱动下,大大增强了真空室内的等离子体密度,改善离子反应镀膜的环境;微液滴减少了,极大的提高了电弧涂层的表面光亮度,膜层色泽更加饱满。

  复合磁场

4G电弧技术-复合磁场
 
  增强等离子体密度
 
  在强磁场的作用下,阴极电弧放电在靶材表面附近产生的等离子体,会被推向镀膜区域,大大增强了真空室内的等离子体密度,改善了反应离子镀膜的环境和条件;从而能显著改善反应离子镀膜质量。
 
  有效抑制“微液滴”
 
  1、在强力可变电磁场的驱动下,弧斑不仅会沿着靶面圆环快速跑动,还会沿着直径方向来回移动;使得电弧弧斑跑动更快、每个弧斑更细碎(如左下图)、弧斑数量更多。从而降低“微液滴”的尺寸和大大液滴的数量,使得所镀膜层更加细腻和光泽。
 
  2、对于大量含Al的各种合金靶材,如:AlTi系合金靶,AlCr系合金靶等,4G-CAE电弧抑制Al液滴有非常显著的效果!

4G-CAE电弧技术有效抑制“微液滴”
 
  提高靶材利用率
 
  4G-CAE实际放电状态:在不同放电电流(95A或150A)下,持续放电1秒钟时间,电弧弧斑在靶面上的分布可以控制均匀。
 
  4G-CAE靶材利用率高:利用电磁场强度容易调整改变的特性,调制弧斑在靶材直径方向上往返移动,以实现更均匀的靶材烧蚀形貌,提高靶材利用率。靶材利用率可达70%。

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