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PVD离子镀膜技术 当前位置:主页 > 技术说明 > PVD离子镀膜技术

 

        PVD是物理气相沉积技术(Physical Vapor Deposition)的简称,是指在真空条件下,采用物理的方法将材料(俗称靶材或膜料)气化成气态分子、原子或离子,并将其沉积在工件形成具有某种特殊功能的薄膜的技术,常见的PVD沉积技术有:蒸发技术、溅射技术、电弧技术。

        离子镀膜技术是PVD技术的一种,是指在PVD沉积过程中,被镀材料形成金属或者非金属等离子体(如Ti离子,N离子),等离子体在偏压电场的作用下,沉积在工件表面上。由于离子镀过程中,离子的能量更强,离子绕射性更好,膜层的结合力更好,膜层致密性也更好,膜层性能更好。

        离子镀膜技术的应用非常广泛,常见的有:装饰性镀膜,工具模具硬质镀膜以及各种功能膜层。
 

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