北京丹普参加第五届全国工业等离子体会议
发布时间：2017-12-28
2017年12月22-24日，由中国力学会学全国等离子体技术专业委员会等四单位主办，哈尔滨工业大学承办的第五届全国工业等离子体会议暨第五届高离化磁控多弧技术研讨会及第二届PVD企校合作高层论坛在哈工大顺利召开，来自全国业内的各校企单位三百余人参加了此次会议，此次会议公分为四项主要议题，分别是工业等离子体源及仿真技术、等离子体与电源、电弧等离子体、等离子体在线诊断技术等。
国内各高校研究院所和企业的专家学者和工程师们分别介绍了各自单位的技术研发及最新应用成果。北京丹普表面技术有限公司的董骐先生与会并做了现场演讲，介绍了丹普公司开发的关于4G-CAE电磁驱动电弧放电、GisEtch和GIMS、及采用4G-CAE:Ti和MS:C靶源镀制TiN掺C等相关技术，受到与会嘉宾们的欢迎。
会议共展开了十余场学术报告和专题讨论，受到与会者的高度关注和积极参与，问答讨论气氛热烈。还特别呼吁和推动国内高校、研究院所与企业间的密切交流与互惠合作。
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