丹普4G-CAE电弧技术镀制20微米TiN膜层的测试报告
发布时间：2024-04-02
TiN涂层是目前应用于刀具、模具以及关键零部件最为广泛的涂层，它具有硬度高、摩擦系数低等特点，传统TiN涂层的厚度基本都在3-5微米，由于膜层生长结构的原因，很难将膜层沉积到20微米，而北京丹普表面技术有限公司利用GISETCH+4G-CAE电弧技术完美的解决了这一问题。点击这里查看4G-CAE技术介绍
本试验基于丹普AS500型工具镀硬质涂层设备，使用GISETCH+4G-CAE技术，在高速钢机体表面沉积20微米TiN涂层，其表面形貌、组织结构及性能的测试，达到了非常理想的效果。
试验条件：
设备：AS500试验机
基片：高速钢试片
镀膜温度：420℃
镀膜方式：GISETCH+4G-CAE
膜层材料：TiN
测试结果：
膜层厚度（球磨法）：21.159微米
硬度值HK/25gf：2980HK
洛氏压痕级别：HF1级
划痕结合力：LC2=100N
折弯测试：不锈钢折弯形貌较好，表层膜层未脱落
硬度值HK/25gf：2980HK
洛氏压痕级别：HF1级
划痕结合力：LC2=100N
折弯测试：不锈钢折弯形貌较好，表层膜层未脱落
结论：
使用丹普4G-CAE阴极电弧技术处理的涂层可以有效减少镀制过程中的微液滴，极大的提高了电弧涂层的表面光亮度、硬度及耐磨性，膜层更加致密，色泽更加饱满，还可以提高靶材利用率，靶材利用率可达70%，从而大幅提高了TiN涂层的性能。
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