平衡磁控溅射和非平衡磁控溅射
2019-01-15平衡磁控溅射即传统的磁控溅射，是在阴极靶材背后放置芯部与外环磁场强度相等或相近的永磁体或电磁线圈，在靶材表面形成与电场方向垂直的磁场。沉积室充入一定量的工作气体，...
查看详情 >真空PVD合金膜的溅射沉积方法
2019-01-02为使溅射系统所用靶的数量减少，尽量用一个靶就能溅射沉积制取符合成分及性能要求的合金薄膜，可以采用合金靶、复合镶嵌靶、以及采用多靶溅射等。 一般说来，在放电稳定状态下...
查看详情 >真空PVD镀膜工艺---刀具涂层
2018-12-17通过化学或物理的方法在刀具表面形成某种薄膜（即镀膜工艺），使切削刀具获得优良的综合切削性能，从而满足高速切削加工的要求；自20世纪70年代初硬质涂层刀具问世以来，化学气...
查看详情 >铝合金表面处理6大工艺
2018-12-17金属类材质在现有的各类产品上运用越来越多,因为金属类材质更能体现产品品质、凸显品牌价值，而在众多金属类材质中，铝因为它的易加工、视觉效果好、表面处理手段丰富，首当其...
查看详情 >影响磁控溅射均匀性的因素
2018-11-23磁控溅射生成的薄膜厚度的均匀性是成膜性质的一项重要指标，因此有必要研究影响磁控溅射均匀性的因素，以更好的实现磁控溅射均匀镀膜。简单的说磁控溅射就是在正交的电磁场中...
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